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光電解決方案

Solution

光電解決方案

新微半導體提供基于4吋/3吋磷化銦(InP)晶圓與6吋/4吋砷化鎵(GaAs)晶圓材料的全系列光電工藝從外延到制造的代工解決方案。工藝技術(shù)涵蓋鋅擴散、對接生長(cháng)、多次外延、電子束光刻、電子束鍍膜、離子注入+氧化孔徑和BCB工藝等關(guān)鍵工藝。以高可靠性的工藝制程為廣大客戶(hù)制造生產(chǎn)高速度、高靈敏度的光電探測器(包括PD、MPD和APD……)等產(chǎn)品,以及覆蓋各波段的邊發(fā)射器(包括FP、DFB和EML……)等產(chǎn)品和垂直腔面反射激光器(VCSEL)等產(chǎn)品。產(chǎn)品可廣泛應用于通信、數據中心、人臉識別、光通信、汽車(chē)雷達、醫療與消費電子等眾多終端應用領(lǐng)域。


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光電探測器工藝平臺


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光電邊發(fā)射器工藝平臺


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光電垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)工藝平臺


垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)是極具發(fā)展前景的光發(fā)射芯片,其應用范圍從最初的光通信領(lǐng)域已擴展到了諸多新興光傳感領(lǐng)域。

新微半導體VCSEL芯片工藝平臺擁有高速光通信VCSEL、陣列VCSEL兩大工藝平臺,可以為光通信、光傳感領(lǐng)域的廣大客戶(hù)提供晶圓代工服務(wù)。



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光電外延工藝平臺


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新微半導體提供基于4吋/3吋磷化銦(InP)晶圓與6吋/4吋砷化鎵(GaAs)晶圓材料的全系列光電工藝從外延到制造的代工解決方案。工藝技術(shù)涵蓋鋅擴散、對接生長(cháng)、多次外延、電子束光刻、電子束鍍膜、離子注入+氧化孔徑和BCB工藝等關(guān)鍵工藝。以高可靠性的工藝制程為廣大客戶(hù)制造生產(chǎn)高速度、高靈敏度的光電探測器(包括PD、MPD和APD……)等產(chǎn)品,以及覆蓋各波段的邊發(fā)射器(包括FP、DFB和EML……)等產(chǎn)品和垂直腔面反射激光器(VCSEL)等產(chǎn)品。產(chǎn)品可廣泛應用于通信、數據中心、人臉識別、光通信、汽車(chē)雷達、醫療與消費電子等眾多終端應用領(lǐng)域。


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組合 176.png


光電探測器工藝平臺


組合 142.png


光電邊發(fā)射器工藝平臺


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光電垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)工藝平臺


垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)是極具發(fā)展前景的光發(fā)射芯片,其應用范圍從最初的光通信領(lǐng)域已擴展到了諸多新興光傳感領(lǐng)域。

新微半導體VCSEL芯片工藝平臺擁有高速光通信VCSEL、陣列VCSEL兩大工藝平臺,可以為光通信、光傳感領(lǐng)域的廣大客戶(hù)提供晶圓代工服務(wù)。



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光電外延工藝平臺


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